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计算光刻与版图优化 本书由中国科学院微电子研究所计算光刻科研团队撰写，系统、全面地介绍了集成电路制造中的计算光刻与版图优化的理论和关键技术
《 计算光刻与版图优化 》 由中国科学院微电子研究所计算光刻科研团队韦亚一博士、粟雅娟博士、董立松博士、张利斌博士、陈睿博士、赵利俊博士撰写，系统、全面地介绍了集成电路制造中的计算光刻与版图优化的理论、关键技术、可制造设计和设计工艺协同优化。 适值我国尖端芯片技术及产业遭受他国 围堵 之际，本书出版正当时。本书不仅适合集成电路研究、设计、制造的从业者阅读，还适合高等院校微电子相关专业的本科生、研究生阅读和参考。
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计算光刻与版图化 韦亚一等 电子工业出版社 集成电路设计与制造 高等院校微电子相关业的本科生研究生阅读和参考图书籍 1
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大规模集成电路先进光刻理论与应用+高端光刻机像质检测技术上册+高端光刻机像质检测技术下册 3本科学出版社图书籍 正版图书 可开发票
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大规模集成电路光刻理论与应用 光刻技术概述 匀胶显影机及其应用 投影式光刻机的工作原理掩模板及其管理图书97870304
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计算光刻与版图优化 【速开发票，此书为单本而非一套，支持7天无理由退换】
光刻是集成电路制造的核心技术，光刻工艺成本已经超出集成电路制造总成本的三分之一。在集成电路制造的诸多工艺单元中，只有光刻工艺可以在硅片上产生图形，从而完成器件和电路三维结构的制造。计算光刻被公认为是一种可以进一步提高光刻成像质量和工艺窗口的有效手段。基于光刻成像模型，计算光刻不仅可以对光源的照明方式做优化，对掩模上图形的形状和尺寸做修正，还可以从工艺难度的角度对设计版图提出修改意见，*终保证光刻工艺有足够的分辨率和工艺窗口。本书共7章，首先对集成电路设计与制造的流程做简要介绍，接着介绍集成电路物理设计（版图设计）的全流程，然后介绍光刻模型、分辨率增强技术、刻蚀效应修正、可制造性设计，*后介绍设计与工艺协同优化。 本书内容紧扣先进技术节点集成电路制造的实际情况，涵盖计算光刻与版图
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计算光刻与版图优化 【速开发票，此书为单本而非一套，支持7天无理由退换】
光刻是集成电路制造的核心技术，光刻工艺成本已经超出集成电路制造总成本的三分之一。在集成电路制造的诸多工艺单元中，只有光刻工艺可以在硅片上产生图形，从而完成器件和电路三维结构的制造。计算光刻被公认为是一种可以进一步提高光刻成像质量和工艺窗口的有效手段。基于光刻成像模型，计算光刻不仅可以对光源的照明方式做优化，对掩模上图形的形状和尺寸做修正，还可以从工艺难度的角度对设计版图提出修改意见，*终保证光刻工艺有足够的分辨率和工艺窗口。本书共7章，首先对集成电路设计与制造的流程做简要介绍，接着介绍集成电路物理设计（版图设计）的全流程，然后介绍光刻模型、分辨率增强技术、刻蚀效应修正、可制造性设计，*后介绍设计与工艺协同优化。 本书内容紧扣先进技术节点集成电路制造的实际情况，涵盖计算光刻与版图
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2册 现代集成电路工厂中的先进光刻工艺研发方法与流程 李艳丽+光刻胶材料评测技术 从酚醛树脂光刻胶到的EUV光刻胶 光刻
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超大规模集成电路先进光刻理论与应用 超大规模集成电路先进光刻理论与应用
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本书由中科院微电子研究所计算光刻科研团队韦亚一博士、粟雅娟博士、董立松博士、张利斌博士、陈睿博士、赵利俊博士撰写，系统、全面地介绍了集成电路制造中的计算光刻与版图优化的理论、关键技术、可制造设计和设计工艺协同优化。
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计算光刻与版图优化/集成电路技术丛书/大学研究生数学辅导书系列9787121402265 正版新书希望阶梯图书专营店 正版图书保证质量 七天无理由退货让您购物无忧
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超大规模集成电路先进光刻理论与应用韦亚一科学出版社9787030482686
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律（器件集成度每两年左右翻一番）得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺，内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于32nm节点以下的技术。书中引用了很多工艺实例，这些实例都是经过生产实际验证的，希望能对读者有所启发。
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