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集成电路（IC）版图设计是一个很新的领域，虽然掩模设计已经有30多年的历史，但直到最近才成为一种职业。人们希望从事这个职业，包括大学毕业生和一些希望转行的人们，他们需要了解一些很复杂的原理。同样地，一些富有经验的版图工程师也发现当代IC工艺的复杂性要求他们进一步了解这些基础知识。版图设计不是一个孤立的设计环节，它与一系列的技术相关联。本书从基本半导体理论开始介绍，进而阐述了在现代半导体技术中基本器件的发展，为读者提供了IC版图设计的方法与技术。本书的一个突出特点是 在介绍版图设计的同时说明了为什么要这样设计，使读者知其然，知其所以然。本书内容的重点是版图设计的基础知识，对于新入行的从业者，这是一个良好的开端 对于有经验的设计者，则可作为对设计经验的回味和思考。
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实用中医临证指南 李伟华 科学技术文献出版社 9787502374280
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本书是“南海I号”海洋出水金属文物保护研究课题之成果，围绕海洋出水金属文物的腐蚀与保护展开，系统总结了金属文物保护的方法与技术，以“南海I号”沉船作为案例，开展了相关腐蚀防护研究，开发了金属文物缓蚀新材料和新工艺，形成了新型缓蚀技术，取得了一系列的具有自主知识产权的研究成果。本书主要内容有海洋出水金属文物概述及腐蚀保护方法、海洋出水文物腐蚀情况和影响因素、金属文物除锈技术、金属文物有害盐脱除技术、
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海洋出水金属文物腐蚀与保护 化学工业出版社 新华书店正版，关注店铺成为会员可享店铺专属优惠，团购客户请咨询在线客服！
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本书是 南海I号 海洋出水金属文物保护研究课题之成果，围绕海洋出水金属文物的腐蚀与保护展开，系统总结了金属文物保护的方法与技术，以 南海I号 沉船作为案例，开展了相关腐蚀防护研究，开发了金属文物缓蚀新材料和新工艺，形成了新型缓蚀技术，取得了一系列的具有自主知识产权的研究成果。本书主要内容有海洋出水金属文物概述及腐蚀保护方法、海洋出水文物腐蚀情况和影响因素、金属文物除锈技术、金属文物有害盐脱除技术、海洋出水金属文物缓蚀技术、金属文物封护与技术等。
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