¥71.50定价:¥98.00 (7.3折)
微纳尺度制造工程 (第3版) 【正版】 【店主推荐,正版书放心购买,可开发票】
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥154.70定价:¥494.10 (3.14折)
微纳尺度制造工程 (第3版) 【正版】 【店主推荐,正版书放心购买,可开发票】
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥154.99定价:¥494.97 (3.14折)
微电子制造技术概论严利人 著清华大学出版社9787302208181 正版旧书,保证质量,此书为单本而非一套,电子发票!
《微电子制造技术概论》介绍和描述了集成电路工艺制造的成套工艺流程和各工艺单步的技术内容。对于流程的介绍,除举例和说明一般性流程特点之外,专有一章说明了流程调度实施的技术与算法;对于各工艺单步,首先根据各单项工艺技术的作用进行了粗略分类,在此基础上,从工艺原理、工艺设备技术特点、实践操作等不同侧面,进行了略做扩展的描述。 《微电子制造技术概论》可作为集成电路制造相关专业的本科生和研究生教材,也可供相关专业人士参考。
¥32.80定价:¥172.20 (1.91折)
微纳尺度制造工程 严利人 著 电子工业出版社【可开电子发票】 【速开发票,优质售后,支持7天无理由退换】
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥111.38定价:¥310.76 (3.59折)
微纳尺度制造工程 严利人 著【正版】 【速开发票,优质售后,支持7天无理由退换】
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥194.80定价:¥477.60 (4.08折)
微纳尺度制造工程 严利人 著 电子工业出版社 【速开发票,此书为单本而非一套,支持7天无理由退换】
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥97.00定价:¥195.40 (4.97折)
微纳尺度制造工程 严利人 著【速开发票,优质售后,支持7天无理由退换】 【正版】
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥199.80定价:¥479.60 (4.17折)
微纳尺度制造工程 严利人 著 9787121134289 电子工业出版社【正版书籍】 【速开发票,优质售后,支持7天无理由退换】
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥141.40定价:¥283.80 (4.99折)
微纳尺度制造工程 严利人 著【速开发票,优质售后,支持7天无理由退换】 【正版】
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥143.00定价:¥374.00 (3.83折)
微纳尺度制造工程 严利人 著 9787121134289 电子工业出版社【达额立减】 【速开发票,优质售后,支持7天无理由退换】
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥141.40定价:¥283.80 (4.99折)
微纳尺度制造工程 严利人 等 著 电子工业出版社【正版书籍】 【热销推荐,正版现货,全国三仓就近发货,物流快捷,欢迎选购!】
¥176.00定价:¥374.94 (4.7折)
《漳浦县茶史话》(漳州茶丛书)【正版保真】 正版图书 可开发票
¥103.56定价:¥103.56
微纳尺度制造工程 严利人 等 著 电子工业出版社【达额立减】 正版图书,下单前请先咨询客服,欢迎选购!
¥196.00定价:¥400.00 (4.9折)
微电子制造技术概论 严利人 等编著 清华大学出版社【正版书籍】 正版图书,下单前请先咨询客服,欢迎选购!
¥132.76定价:¥275.52 (4.82折)
¥275.60定价:¥552.20 (5折)
¥275.60定价:¥552.20 (5折)
¥49.33定价:¥108.66 (4.54折)
李瑞河签赠本天福之路 书籍非全新 85-99成新,以实拍图为准发货,介意勿拍
¥27.00定价:¥29.70 (9.1折)
¥103.58定价:¥103.58
《漳浦县茶史话》(漳州茶丛书)【星愿文化 全新正版】 可开发票 如需请联系在线小当当客服
¥103.58定价:¥103.58
微纳尺度制造工程 (第3版) 【正版】 【店主推荐,正版书放心购买,可开发票】
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥124.69定价:¥279.38 (4.47折)
¥47.72定价:¥175.44 (2.73折)
¥105.04定价:¥105.04
¥222.00定价:¥524.00 (4.24折)
¥292.00定价:¥585.00 (5折)
微纳尺度制造工程【售后无忧】 线上线下同步销售,请咨询客服查询库存后下单,避免纠纷。
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥143.00定价:¥296.00 (4.84折)
¥199.80定价:¥479.60 (4.17折)
¥293.50定价:¥588.00 (5折)
微纳尺度制造工程 (第3版) 【正版】 【店主推荐,正版书放心购买,可开发票】
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥154.62定价:¥493.86 (3.14折)
微纳尺度制造工程 严利人 电子工业出版社【可开电子发票】 【正品保证,进入店铺更多优惠!】
¥166.10定价:¥342.20 (4.86折)
¥275.60定价:¥552.20 (5折)
¥199.80定价:¥479.60 (4.17折)
¥103.98定价:¥103.98
微纳尺度制造工程 (第3版) 【正版】 【店主推荐,正版书放心购买,可开发票】
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥154.97定价:¥494.91 (3.14折)
¥274.20定价:¥549.40 (5折)
微纳尺度制造工程(第三版)【正版】 【正版图书,达额减,电子发票】
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥222.00定价:¥524.00 (4.24折)
微纳尺度制造工程【放心购买】 线上线下同步销售,请咨询客服查询库存后下单,避免纠纷。
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥142.50定价:¥295.00 (4.84折)
¥275.10定价:¥551.20 (5折)
¥103.18定价:¥103.18
¥276.20定价:¥553.40 (5折)
微纳尺度制造工程 严利人 等 电子工业出版社【正版书籍】 【正品保证,进入店铺更多优惠!】
¥166.10定价:¥342.20 (4.86折)
微电子制造技术概论 严利人 著 9787302208181 清华大学出版社 【速开发票,优质售后,支持7天无理由退换】
《微电子制造技术概论》介绍和描述了集成电路工艺制造的成套工艺流程和各工艺单步的技术内容。对于流程的介绍,除举例和说明一般性流程特点之外,专有一章说明了流程调度实施的技术与算法;对于各工艺单步,首先根据各单项工艺技术的作用进行了粗略分类,在此基础上,从工艺原理、工艺设备技术特点、实践操作等不同侧面,进行了略做扩展的描述。 《微电子制造技术概论》可作为集成电路制造相关专业的本科生和研究生教材,也可供相关专业人士参考。
¥29.04定价:¥146.08 (1.99折)
硅超大规模集成电路工艺技术 【正版】 【店主推荐,正版书放心购买,可开发票】
本书是美国斯坦福大学电气工程系“硅超大规模集成电路制造工艺”课程所使用的教材,该课程是为电气工程系微电子学专业的四年级本科生及一年级研究生开设的一门专业课。本书大的特点是,不仅详细介绍了与硅超大规模集成电路芯片生产制造相关的实际工艺技术,而且还着重讲解了这些工艺技术背后的科学原理。特别是对于每一步单项工艺技术,书中都通过工艺模型和工艺模拟软件,很形象直观地给出了实际工艺过程的物理图像。同时全书还对每一步单项工艺技术所要用到的测量方法做了详细的介绍,对于工艺技术与工艺模型的未来发展趋势也做了必要的分析讨论。另外,本书每一章后面都附有相关内容的参考文献,同时还附有大量习题。对于我国高等院校微电子学专业的教师及学生,本书是一本不可多得的教材和教学参考书,并可供相关领域的工程技术人
¥232.04定价:¥726.12 (3.2折)
微纳尺度制造工程(第3版)严利人 著电子工业出版社9787121134289 正版旧书,保证质量,此书为单本而非一套,电子发票!
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥156.40定价:¥412.10 (3.8折)
微纳尺度制造工程(第3版) 严利人 电子工业出版社 9787121134289
¥110.00定价:¥110.00
微纳尺度制造工程(第3版)严利人 著电子工业出版社(正版旧书)9787121134289 正版旧书,保证质量,此书为单本而非一套,电子发票!
《微纳尺度制造工程(第3版)》是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
¥157.70定价:¥411.20 (3.84折)
微电子制造科学原理与工程技术 【正版书籍】 【店主推荐,正版书放心购买,可开发票】
本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书还介绍了各种先进的工艺技术,如快速热处理、下一代光刻、分子束外延和金属有机物化学气相淀积等。在此基础上本书讨论了如何将这些单项工艺集成为各种常见的集成电路工艺技术,如CMOS技术、双极型技术和砷化镓技术,还介绍了微电子制造的新领域,即微机械电子系统及其工艺技术。本书可作为高等学校微电子专业本科生和研究生相应课程的教科书或参考书,也可供与集成电路制造工艺技术有关的专业技术人员学习的参考。
¥133.78定价:¥573.33 (2.34折)
¥235.00定价:¥471.00 (4.99折)
¥235.00定价:¥471.00 (4.99折)
微电子制造科学原理与工程技术【正版】 正版书籍,可开发票,满额减
¥88.00定价:¥256.00 (3.44折)
微电子制造科学原理与工程技术 【正版】 【店主推荐,正版书放心购买,可开发票】
本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书还介绍了各种先进的工艺技术,如快速热处理、下一代光刻、分子束外延和金属有机物化学气相淀积等。在此基础上本书讨论了如何将这些单项工艺集成为各种常见的集成电路工艺技术,如CMOS技术、双极型技术和砷化镓技术,还介绍了微电子制造的新领域,即微机械电子系统及其工艺技术。本书可作为高等学校微电子专业本科生和研究生相应课程的教科书或参考书,也可供与集成电路制造工艺技术有关的专业技术人员学习的参考。
¥182.07定价:¥575.67 (3.17折)
¥235.00定价:¥471.00 (4.99折)
¥234.50定价:¥470.00 (4.99折)
¥88.00定价:¥256.00 (3.44折)
微电子制造科学原理与工程技术 【正版】 【店主推荐,正版书放心购买,可开发票】
本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书还介绍了各种先进的工艺技术,如快速热处理、下一代光刻、分子束外延和金属有机物化学气相淀积等。在此基础上本书讨论了如何将这些单项工艺集成为各种常见的集成电路工艺技术,如CMOS技术、双极型技术和砷化镓技术,还介绍了微电子制造的新领域,即微机械电子系统及其工艺技术。本书可作为高等学校微电子专业本科生和研究生相应课程的教科书或参考书,也可供与集成电路制造工艺技术有关的专业技术人员学习的参考。
¥181.33定价:¥572.04 (3.17折)
微电子制造科学原理与工程技术 【正版】 【店主推荐,正版书放心购买,可开发票】
本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书还介绍了各种先进的工艺技术,如快速热处理、下一代光刻、分子束外延和金属有机物化学气相淀积等。在此基础上本书讨论了如何将这些单项工艺集成为各种常见的集成电路工艺技术,如CMOS技术、双极型技术和砷化镓技术,还介绍了微电子制造的新领域,即微机械电子系统及其工艺技术。本书可作为高等学校微电子专业本科生和研究生相应课程的教科书或参考书,也可供与集成电路制造工艺技术有关的专业技术人员学习的参考。
¥181.72定价:¥576.48 (3.16折)
微电子制造科学原理与工程技术 【正版】 【店主推荐,正版书放心购买,可开发票】
本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书还介绍了各种先进的工艺技术,如快速热处理、下一代光刻、分子束外延和金属有机物化学气相淀积等。在此基础上本书讨论了如何将这些单项工艺集成为各种常见的集成电路工艺技术,如CMOS技术、双极型技术和砷化镓技术,还介绍了微电子制造的新领域,即微机械电子系统及其工艺技术。本书可作为高等学校微电子专业本科生和研究生相应课程的教科书或参考书,也可供与集成电路制造工艺技术有关的专业技术人员学习的参考。
¥182.25定价:¥574.62 (3.18折)
微电子制造科学原理与工程技术(第二版) 正版图书,下单速发,可开发票
暂时没有内容
¥347.00定价:¥695.00 (5折)
微电子制造科学原理与工程技术(第二版)(美)坎贝尔 ,曾莹,严利人,王纪军电子工业出版社(正版旧书)9787505383 【正版原版旧图书,保证质量,电子发票,支持7天无理由退换!】
暂时没有内容
¥53.50定价:¥613.36 (0.88折)