光学光刻和极紫外光刻 系统解读光学光刻技术,支持“摩尔定律”的延续
1. 本书概况 光刻机常被成称为 半导体工艺皇冠上的明珠 。谁掌握了光刻机制造技术,谁就可以在大国博弈中立于不败之地。本书在介绍光刻技术应用上,作者涵盖了全面又丰富的内容;在论述光刻技术的共性内容后,该书专门开辟章节,较为详细地介绍了的极紫外光刻技术的特点和难点,从理论上揭示了极紫外光刻的技术奥秘。 2.本书特色 (1)本书是一本系统解读光学光刻技术的专著,涵盖了该领域各个重要方面,既有理论的深度又有内容的广度。 (2)目前尚没有一本关于光刻技术方面的书可以与之媲美。该书凝聚了作者在光刻领域三十多年科研和教学的精华,对于从事芯片领域的专业技术人员,这是一本手册性的内容丰富的参考书。 (3)本书由ASML团队匠心翻译。
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