光学光刻和极紫外光刻 系统解读光学光刻技术,支持“摩尔定律”的延续
1. 本书概况 光刻机常被成称为 半导体工艺皇冠上的明珠 。谁掌握了光刻机制造技术,谁就可以在大国博弈中立于不败之地。本书在介绍光刻技术应用上,作者涵盖了全面又丰富的内容;在论述光刻技术的共性内容后,该书专门开辟章节,较为详细地介绍了的极紫外光刻技术的特点和难点,从理论上揭示了极紫外光刻的技术奥秘。 2.本书特色 (1)本书是一本系统解读光学光刻技术的专著,涵盖了该领域各个重要方面,既有理论的深度又有内容的广度。 (2)目前尚没有一本关于光刻技术方面的书可以与之媲美。该书凝聚了作者在光刻领域三十多年科研和教学的精华,对于从事芯片领域的专业技术人员,这是一本手册性的内容丰富的参考书。 (3)本书由ASML团队匠心翻译。
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光学光刻和极紫外光刻 (德)安迪·爱德曼 著 高伟民,徐东波,诸波尔 译 新华书店正版,关注店铺成为会员可享店铺专属优惠,团购客户请咨询在线客服!
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光学光刻和极紫外光刻 安迪·爱德曼 上海科学技术出版社 9787547857205
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光学光刻和极紫外光刻安迪·爱德曼上海科学技术出版社9787547857205蔚蓝书店 七天无理由退货 团购优惠 正规发票
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光学光刻和极紫外光刻 (德)安迪·爱德曼 著 高伟民,徐东波,诸波尔 译 上海科学技术出版社
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光学光刻和极紫外光刻 [德]安迪?爱德曼(Andreas Erdmann) 上海科学技术出版社 【新华书店正版图书】
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全新正版图书 光学光刻和极紫外光刻安迪·爱德曼上海科学技术出版社9787547857205人天图书专营店 正版图书保证质量 七天无理由退货让您购物无忧
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正版书籍 光学光刻和极紫外光刻 [美]安迪·爱德曼 著,高伟民,徐东波,诸波尔 译 上海科学技术出版社 正版图书支持发票 七天无理由退货让您购物无忧
适读人群 :光学、微电子和材料工程等专业本科生,光刻技术、激光与物质相互作用、激光等离子体等专业的研究生和教师,以及从事芯片领域的专业技术人员、研发工程师和技术管理人员 1. 本书概况 光刻机常被成称为“半导体工艺皇冠上的明珠”。谁掌握了光刻机制造技术,谁就可以在大国博弈中立于不败之地。本书在介绍光刻技术应用上,作者涵盖了全面又丰富的内容;在论述光刻技术的共性内容后,该书专门开辟章节,较为详细地介绍了进的极紫外光刻技术的特点和难点,从理论上揭示了极紫外光刻的技术奥秘。 2.本书特色 (1)本书是一本系统解读光学光刻技术的Z新专著,涵盖了该领域各个重要方面,既有理论的深度又有内容的广度。 (2)目前尚没有一本关于光刻技术方面的书可以与之媲美。该书凝聚了作者在光刻领域三十多年
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适读人群 :光学、微电子和材料工程等专业本科生,光刻技术、激光与物质相互作用、激光等离子体等专业的研究生和教师,以及从事芯片领域的专业技术人员、研发工程师和技术管理人员 1. 本书概况 光刻机常被成称为“半导体工艺皇冠上的明珠”。谁掌握了光刻机制造技术,谁就可以在大国博弈中立于不败之地。本书在介绍光刻技术应用上,作者涵盖了全面又丰富的内容;在论述光刻技术的共性内容后,该书专门开辟章节,较为详细地介绍了进的极紫外光刻技术的特点和难点,从理论上揭示了极紫外光刻的技术奥秘。 2.本书特色 (1)本书是一本系统解读光学光刻技术的Z新专著,涵盖了该领域各个重要方面,既有理论的深度又有内容的广度。 (2)目前尚没有一本关于光刻技术方面的书可以与之媲美。该书凝聚了作者在光刻领域三十多年
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光学光刻和极紫外光刻[美]安迪·爱德曼 著,高伟民 徐东波 上海科学技术出版社9787547857205
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光学光刻和极紫外光刻[美]安迪·爱德曼 著,高伟民 徐东波 上海科学技术出版社9787547857205
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光学光刻和极紫外光刻 [德]安迪?爱德曼(Andreas Erdmann) 上海科学技术出版社 【新华书店正版书籍】
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光学光刻和极紫外光刻 [德]安迪·爱德曼(Andreas Erdmann) 上海科学技术出版社 【速开发票,此书为单本而非一套,支持7天无理由退换】
《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著,内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上,涵盖了全面又丰富的内容;在论述光刻技术的物理机制和数学模型时,采用了完整而不繁琐的方法,增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后,还专门开辟章节,介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点,揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点,它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。
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【全3册】光刻技术原著第二版林本坚+半导体先进光刻理论与技术+MEMS三维芯片集成技术 半导体技术芯片半导体光刻刻蚀工艺 【本店支持开发票 如需帮助请联系客服】
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"1. 本书概况 光刻机常被成称为“半导体工艺皇冠上的明珠”。谁掌握了光刻机制造技术,谁可以在大国博弈中立于不败之地。本书在介绍光刻技术应用上,作者涵盖了又丰富的内容;在论述光刻技术的共内容后,该书专门开辟章节,较为详细地介绍了的极紫外光刻技术的特点和难点,从理论上揭示了极紫外光刻的技术奥秘。 2.本书 (1)本书是一本近期新的光刻技术专著,涵盖了该领域各个重要方面,既有理论的深度又有内容的广度。 (2)目前尚没有一本关于光刻技术方面的书可以与之媲美。该书凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学之精华,对于从事芯片领域的专业技术人员,这是一本手册的内容丰富的参考书。 (3)本书由ASML团队匠心翻译。"
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Product Details 基本信息 ISBN-13 书号 9787547857205 Author 作者 (德)安迪·爱德曼 Format 版本 平装-胶订 Pages Number 页数 340页 Publisher 出版社 上海科学技术出版社 Publication Date 出版日期 2023-01-01 Product Dimensions 商品尺寸 16开 Language 语种 其它(含多语)
¥136.00定价:¥272.00 (5折)
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