薄膜材料:应力、缺陷的形成和表面演化 (美) L.B.Freund,S.Suresh 著,卢磊 等 科学出版社【正版.】 正版图书,下单前请先咨询客服,欢迎选购!
适读人群 :材料物理专业,物理学专业的研究生和高年级的本科生 薄膜在微电子器件、磁存储介质和表面封装等技术应用领域发挥着重要作用,《薄膜材料:应力、缺陷的形成和表面演化》全面阐述了薄膜中的应力以及因其产生的缺陷形成和表面演化等问题。《薄膜材料:应力、缺陷的形成和表面演化》内容兼顾理论、实验和计算机模拟,适合工程技术人员、材料科学和物理学研究人员阅读。《薄膜材料:应力、缺陷的形成和表面演化》英文版被美国哈佛、布朗、麻省理工学院、斯坦福等用作研究生。
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正版薄膜材料:应力、缺陷的形成和表面演化 作者: [美] 弗罗伊德 (Freund L.B.) 卢磊 出版社: 科学出版
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薄膜材料:应力、缺陷的形成和表面演化 [美] L.B.Freund,S.Suresh 著,卢磊 等 译,王中光 校 科学 部分图片套装书籍可能不全 下单前请咨询线上客服
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薄膜材料:应力、缺陷的形成和表面演化 L.B.Freund,S.Suresh著,卢磊等译,王中光校 科学出版社
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