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适读人群 :模拟及射频集成电路设计工程师,系统ESD工程师,EOS相关设计工程师,微电子科学与工程 由于工艺尺寸从微电子到纳电子等比例缩小,过电应力(EOS)持续影响着半导体制造、半导体器件和系统。本书介绍了EOS基础以及如何减缓EOS失效。本书提供EOS现象、EOS成因、EOS源、EOS物理、EOS失效机制、EOS片上和系统设计等清晰图片,也提出关于制造工艺、片上集成和系统级EOS保护网络中EOS源等富有启发性的观点,同时给出特殊工艺、电路和芯片的实例。本书在内容上全面覆盖从片上设计与电子设计自动化到工厂级EOS项目管理的EOS生产制造问题。 相关阅读: 《高压IGBT模块应用技术》 《高压断路器——理论、设计与试验方法》 《电压型PWM整流器的非线性控制(第2版)》 《电压源换流器在电力系统中的应用》 《高性能级联型多电平变
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过电应力 器件、电路与系统 (美)史蒂文 H.沃尔德曼(Steven H.Voldman) 著,雷鑑铭 等 译 机械工业 正版图书,本店套装图书默认为单本,您下单前可咨询在线客服,谢谢!
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