半导体薄膜技术与物理 第二版 叶志镇,吕建国,吕斌,张银珠 著 浙江大学出版社【正版书】 正版图书,下单前请先咨询客服,欢迎选购!
《半导体薄膜技术与物理(第2版)/“十二五”普通高等教育本科规划教材》介绍半导体薄膜的真空技术;物理气相沉积技术(PVD);化学气相沉积技术(CVD);分子束外延技术;液相外延技术等内容。
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2册 光学薄膜技术第3版+现代离子镀膜技术 薄膜光学基础器件设计方法薄膜制造方法光学薄膜材料光学薄膜特性测试功能薄膜应用
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叶志镇、吕建国、吕斌、张银珠编著的《半导体薄膜技术与物理(第2版)》全面系统地介绍了半导体薄膜的各种制备技术及其相关的物理基础。全书共分十章。*章概述了真空技术,第二至第八章分别介绍了蒸发、溅射、化学气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、液相外延、湿化学合成等各种半导体薄膜的沉积技术,第九章介绍了半导体超晶格、量子阱的基本概念和理论,第十章介绍了典型薄膜半导体器件的制备技术。 本书文字叙述上力求做到深入浅出,内容上深度和宽度相结合,理论和实践相结合,以半导体薄膜技术为重点,结合半导体材料和器件的性能介绍,同时还介绍了半导体薄膜技术与物理领域的新概念、新进展、新成果和新技术。本书具有内容翔实、概念清楚、图文并茂的特点。 本书读者对象广泛,可作为高等院校材料、物理、电子、化学等
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